➱ 可调至35um-500um束斑
➱ 大气压无需真空无需掩模
➱ 脑机接口神经微电极处理
➱ 40度超低温多功能表面处理
➱ DGLD激光玻璃直写沉积
➱ 可塑性超强的增材技术
➱ 兼容微尺度到宏观尺度
➱ 极高粗糙度及高性价比
➱ 台式无掩模直写
➱ 业内性价比极高
➱ 多个读写头配置
➱ 简单好用易上手
➱ 最小加工线宽可到0.4um
➱ 多层套刻精度可到0.5um
➱ 365nm+405nm双波长可选
➱ 256阶及65,536阶灰度光刻
➱ 全球知名微纳加工中心选择
➱ 直写光刻领域历史悠久品牌
➱ 独特的平行四读写头设计
➱ 灵活可定制化大面积选择
➱ 一致化学计量比
➱ 低温沉积超精准薄厚
➱ 超高沉积速率
➱ 超广材料范围
➱ 低地球轨道LED空间
➱ 原子氧辐照效应研究
➱ 航天材料测试
➱ 空间科学研究
➱ 纳米到微米级高分辨跨尺度
➱ 无支撑自由成形/零重力效应
➱ 可打印纯金属: Cu, Au, Ni, Ag, Pt
➱ 无需特殊环境无需黄光无需热处理
➱ 新一代超高速ALD技术
➱ 原位复合ALD+PVD
➱ 原位制备多层纳米薄膜
➱ 可升级PEALD等离子增强
➱ 新一代高速ALD技术
➱ 原位复合ALD+PVD
➱ 原位制备多层纳米薄膜
➱ 可升级PEALD等离子增强
➱ 新一代超高速ALD技术
➱ 原位复合ALD+PVD
➱ 原位制备多层纳米薄膜
➱ 可升级PEALD等离子增强
➱ 玻璃3D打印
➱ 飞秒微纳加工
➱ SLE选择激光刻蚀
➱ 德国Lighfab技术
➱ 等离子表面处理
➱ 桌面式设计性价比高
➱ 性能稳定做工优良
➱ RIE反应刻蚀
➱ 磁控溅射镀膜
➱ 有机物低温金属沉积
➱ 电子束蒸镀
➱ 热蒸发
➱ 大于5000mm2/min效率
➱ 可达0.5um刻写线宽精度
➱ 可达0.5um校准对位精度
➱ 最大可加工到12英寸尺寸
➱ 皮秒短脉冲PLD薄膜沉积
➱ 源头遏制微粒及飞溅现象
➱ PulseLion全固态锂电技术
➱ LISA锂硫电池项目技术
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