Noivion Coating公司开发的IJD(Ionized Jet Deposition)高能电离喷射薄膜沉积技术是研究与应用实验室中最具前景的薄膜沉积方法之一, 可完全面向大规模产业化, 这种技术基于一种特殊的脉冲电子源能够在真空中产生超短脉冲和兆瓦级的放电然后进行精确纳米薄膜沉积, 相对比传统PVD/CVD工艺在保持一致化学计量比、低温沉积、超精准薄厚、超高沉积速率、超广材料范围、不同材料复合掺杂等方面优势显著;
IJD是一种基于高能脉冲电离PVD技术, 由特殊的25kV/1us的高压
电子源脉冲下, 在真空或氩气/氧气/氮气等工作气体产生超短脉
冲超音速射流, 并借助阴极放电效应实现高密度电离,电离的高能
电子脉冲轰击靶材形成等离子体羽辉, 进而形成与靶材绝对一致
化学计量的致密涂层;且还与反应性气体结合形成如氧化物或氮
化物, 也可与不同源头同时工作形成复杂组分或掺杂复合物; 
IJD技术区别于其他PVD独特优势:
➢ 特别适合难熔金属如铌、钨、铼、锇、钽或钼等;
➢材料极广如绝缘体、聚合物、半导体、超导体、高熵合金等;
➢可用惰性气氛或反应性气氛创造新材料如O2、N2、混合气等;
➢允许低温、低热薄膜制备工艺, 尤其适合热敏柔性衬底;
➢保持绝对一致化学计量比, 并极具扩展性如多材料掺杂复合;
➢ 单次沉积轻松优化复杂材料如超导YBCO或光敏半导体CIGS;
➢沉积速率及附着力及材料范围均明显优于其他PVD/CVD工艺;
